微(wei)機(ji)全自動灰(hui)(hui)熔點測(ce)定(ding)儀，該(gai)儀器可廣(guang)泛應用于電力、煤炭、冶金(jin)等行業。是利用微(wei)機(ji)對灰(hui)(hui)熔融(rong)性測(ce)定(ding)過程進行自動控(kong)制(zhi)(zhi)，選用高分辨率工業攝像(xiang)機(ji)，灰(hui)(hui)錐圖(tu)(tu)像(xiang)直接在微(wei)機(ji)上顯示，錄制(zhi)(zhi)全部實(shi)驗圖(tu)(tu)像(xiang)，選擇原型后(hou)，電腦自動調節圖(tu)(tu)像(xiang)亮(liang)度，讓(rang)圖(tu)(tu)像(xiang)始終保持(chi)清(qing)晰(xi)自然(ran)。    

可(ke)自動(dong)和手(shou)動(dong)兩種(zhong)方式(shi)對(dui)3個試樣判斷抓(zhua)取原型溫(wen)(wen)度(du),軟化溫(wen)(wen)度(du)，半(ban)球(qiu)溫(wen)(wen)度(du)，流動(dong)溫(wen)(wen)度(du)，同時抓(zhua)取該(gai)溫(wen)(wen)度(du)對(dui)應的實時圖(tu)(tu)像，并可(ke)將灰錐結果(guo)圖(tu)(tu)像及相(xiang)應溫(wen)(wen)度(du)值(zhi)打印，實驗過程的圖(tu)(tu)像及溫(wen)(wen)度(du)存入磁盤。

微機全自動(dong)灰熔點測(ce)定(ding)儀特點：

★ 微機自動控制溫升(sheng)，溫升(sheng)特性符合國標(biao) GB219-2008。

★ 灰(hui)錐圖像自動(dong)在微(wei)機屏幕上顯示。

★ 系統具有存(cun)盤及寫盤功能，可將(jiang)灰錐(zhui)圖像存(cun)入計算機，并可隨時調出。

★ 可打印灰錐圖像及(ji)溫度(du)。

★ 屏幕顯(xian)示(shi)溫升曲線。

★ 系統采用WINDOWS操作系統。

★ 高溫爐帶一體(ti)化設計，使裝樣簡單(dan)易用。

微(wei)機全自動灰熔點(dian)測定儀技術參數(shu)

    高溫爐：      臥式爐。

    加熱元件：    硅碳管。

    最高(gao)加熱(re)溫度：1600℃。

    溫(wen)度輸入元件：鉑銠-鉑 熱電偶(ou)。

    溫度(du)顯示精度(du)：≤0.2%  (FS)。    

    升(sheng)溫控制(zhi)方式：自動加速度(du)控制(zhi)。

    升(sheng)溫速度：＜850℃  15℃-20℃/min ；850℃～900℃ 15℃-1℃/min ；900℃～1500℃  5℃/min。

注:由于高溫爐的熱(re)慣性(xing)較大,為保證900℃后升溫速(su)度滿足5℃/分鐘的要求,從(cong)850℃開始逐漸降低溫升速(su)度，因此這個階段(duan)溫升速(su)度為15℃-1℃/分鐘。灰錐觀(guan)察方式：攝像機攝取，計算(suan)機顯(xian)示。

本儀器(qi)符(fu)合(he)標準(zhun)《煤(mei)灰熔融性的測定方法》（GB219-2008）四點(dian)技術(shu)要求：

1、高溫(wen)恒溫(wen)帶(dai)長約(yue)30mm（△t=5℃）。

2、能比(bi)較準確地控制升溫(wen)速度（900℃以前為(wei)15℃~20℃/min，900℃以后為(wei)5℃±1℃/min），并在三小時內加熱到1500℃。

3、可(ke)用通氣(qi)法或封碳法來控(kong)制爐內氣(qi)氛(fen)為(wei)弱還(huan)原(yuan)性，用空氣(qi)于爐內自由(you)流通的方(fang)法來控(kong)制為(wei)氧化性氣(qi)氛(fen)。

4、800℃以(yi)后爐內試樣即清晰(xi)可見。

微機全(quan)自(zi)動灰熔點(dian)測定儀使(shi)用(yong)注(zhu)意(yi)事項(xiang)

1、全(quan)自動灰熔點測定儀爐(lu)體(ti)的(de)電源應(ying)(ying)在開始(shi)實驗(yan)時再打開，做完實驗(yan)后應(ying)(ying)及(ji)時關閉，以免對(dui)爐(lu)體(ti)加(jia)熱元(yuan)件造(zao)成(cheng)損壞。

2、計算機的圖形分辨率應設(she)置(zhi)為(wei)640×480，圖像應設(she)置(zhi)為(wei)16位。

3、計(ji)算機(ji)的(de)屏幕(mu)保(bao)護程序應關閉(bi)。

4、計算機的顯示器電源應關(guan)閉。

5、儀器(qi)須(xu)有良(liang)好的接地。

6、在安(an)裝或拆卸爐(lu)子時應小心(xin)，勿損(sun)傷硅碳管，勿使爐(lu)體受強烈振動。

7、使用電流勿超過30A。

8、儀器應放(fang)在(zai)干(gan)燥、通風的(de)地方，不能在(zai)爐內處(chu)理水分(fen)較高的(de)物質(zhi)。

9、爐內嚴禁通入LV氣，在用無煙煤控(kong)制氣體成分時勿用硫分高(gao)者。

10、在(zai)安裝(zhuang)爐子(zi)時注意使硅碳(tan)管與鋼玉內、外(wai)套(tao)管之(zhi)間有(you)一定的(de)空(kong)隙。因為在(zai)煤灰熔性測定中，爐內有(you)CO生(sheng)成(cheng)，同時碳(tan)化(hua)硅在(zai)氧氣不足時會(hui)按SiC+1.5O2=SiO2+CO反(fan)應(ying)式(shi)氧化(hua)而生(sheng)成(cheng)CO2，這(zhe)些CO 在(zai)氧化(hua)氣不足時會(hui)發生(sheng)：2CO=CO2+C反(fan)應(ying)而析(xi)出碳(tan)，析(xi)出之(zhi)碳(tan)如沉積在(zai)硅碳(tan)管之(zhi)螺(luo)紋帶縫隙處會(hui)形成(cheng)短路(lu)而燒壞調壓(ya)器(qi)，所以在(zai)硅碳(tan)管和鋼玉內、外(wai)套(tao)管之(zhi)間應(ying)留適當的(de)空(kong)隙使硅碳(tan)管周(zhou)圍保持(chi)少量的(de)空(kong)氣，將析(xi)出之(zhi)碳(tan)燒掉(diao)并防止局部過熱。

11、儀器背面有(you)裸(luo)露高壓線(xian)，請(qing)勿觸摸。儀器移(yi)動時，須(xu)先(xian)將電源(yuan)切斷。